Марченко Іван Григорович

МА́РЧЕНКО Іван Григорович (16. 08. 1957, Харків) — фізик. Доктор фізико-математичних наук (2007). Закін. Харків. університет (1980), де від 2011 за сумісн. працює професор кафедри фізики нетрадиц. енерготехнологій і екології. Від 1980 — у Харків. фіз.-тех. інституті НАНУ: від 2007 — провідний науковий співробітник відділу інтенсив. іонно-вакуум. технологій. Основні напрями наук. досліджень: вирішення проблеми встановлення закономірностей фіз. процесів низькотемператур. формування структури приповерхневих шарів твердих тіл під впливом атомно-іонних потоків; комп’ютерне моделювання склад. процесів у твердих тілах.

Пр.: Ti and Al layers formation during low energy ion-plasma treatment of copper // Surface and Coatings Technology. 2002. Vol. 158–159 (співавт.); Определение атомной структуры поверхности тонких пленок в методе молекулярной динамики // Вопр. атом. науки и техники. Сер. Физика радиац. повреждений и радиац. материаловедение. 2004. № 3(85) (співавт.); Компьютерное моделирование формирования наноструктуры пленок ниобия при низкотемпературном вакуумном осаждении // Доп. НАНУ. 2005. № 8 (співавт.); Кинетика формирования пористости в тонких пленках ниобия при низкотемпературном осаждении // Вісн. Харків. університету. Сер. фіз.: Ядра, частинки, поля. 2005. № 710, вип. 3(28); Physical mechanism of forming the microstructure of niobium films under low-temperature ion-atomic deposition // Functional Materials. 2006. Vol. 13 (співавт.); Ion beam-assisted deposition technology as a method of nanocrystalline coating formation // Вопр. атом. науки и техники. 2014. № 2 (співавт.).

К. Е. Нємченко

Основні праці

Ti and Al layers formation during low energy ion-plasma treatment of copper // Surface and Coatings Technology. 2002. Vol. 158–159 (співавт.); Определение атомной структуры поверхности тонких пленок в методе молекулярной динамики // Вопр. атом. науки и техники. Сер. Физика радиац. повреждений и радиац. материаловедение. 2004. № 3(85) (співавт.); Компьютерное моделирование формирования наноструктуры пленок ниобия при низкотемпературном вакуумном осаждении // Доп. НАНУ. 2005. № 8 (співавт.); Кинетика формирования пористости в тонких пленках ниобия при низкотемпературном осаждении // Вісн. Харків. університету. Сер. фіз.: Ядра, частинки, поля. 2005. № 710, вип. 3(28); Physical mechanism of forming the microstructure of niobium films under low-temperature ion-atomic deposition // Functional Materials. 2006. Vol. 13 (співавт.); Ion beam-assisted deposition technology as a method of nanocrystalline coating formation // Вопр. атом. науки и техники. 2014. № 2 (співавт.).