Решетняк Олена Миколаївна
РЕШЕТНЯ́К Олена Миколаївна (28. 08. 1970, Харків) — фізик, матеріалознавець. Доктор фізико-математичних наук (2018). Закінчила Харківський політехнічний інститут (1993), де 1993–2006 й працювала (нині Національний технічний університет «Харківський політехнічний інститут»). Від 2006 — старший науковий співробітник Національного наукового центру «Харківський фізико-технічний інститут» НАНУ. Наукові дослідження: фізичне металознавство іонно-плазмових покриттів, технології синтезу твердих матеріалів методами фізичного та хімічного осадження з газової фази, аспекти застосування методів рентґенівського аналізу для дослідження складу, структури, напруженого стану тонких плівок та покриттів.
Додаткові відомості
- Основні праці
- Surface morphology and structure of nanocrystalline diamond films deposited in CH4/H2/Ar glow discharge plasma // Funct. Mater. 2009. Vol. 16, № 260; Cavitation and abrasion resistance of Ti-Al-Y-N coatings prepared by the PIII&D technique from filtered vacuum-arc plasma // Surf. Coat. Technol. 2013. Vol. 223; Structure and properties of TiN coatings produced with PIII&D technique using high efficiency rectilinear filter cathodic arc plasma // Там само. 2013. Vol. 236; Vacuum-arc chromium-based coatings for protection of zirconium alloys from the high-temperature oxidation in air // J. Nucl. Mater. 2015. Vol 465; Role of nonlocal thermoelastic peaks in the stress and texture evolution of TiN coatings formed by plasma based ion implantation and deposition // Surf. Coat. Technol. 2020. Vol. 391 (усі — співавт.).