ЕНЦИКЛОПЕДІЯ
СУЧАСНОЇ УКРАЇНИ
Encyclopedia of Modern Ukraine

Белевський Володимир Петрович

БЕЛЕ́ВСЬКИЙ Володимир Петрович (01. 01. 1936, с. Високе Курської обл., РФ – 28. 08. 2002, Київ) – фахівець у галузі електроніки. Доктор технічних наук (1977), професор (1981). Урядові нагороди. Закін. Ленінгр. політех. інститут (1960). Працював на Сум. заводі електрон. мікроскопів та електроавтоматики (1960– 63); у Київ. НДІ мікроприладів: нач. лаб. (1963–69, 1977–90), нач. відділу (1969–77); у Нац. тех. університеті України «Київ. політех. інститут»: професор кафедри електрон. приладів і пристроїв (1981–90) та каф. радіоконструювання та виробництва апаратури (1990–99). Від 1999 – на пенсії. Осн. наук. дослідж. у галузі тонкоплівкових технологій мікроелектроніки; електронно-, іонопроменевих та іоноплазмових інтегрованих обробок; вакуум. устаткування.

Пр.: Перспективы применения ионного осаждения тонких пленок в микроэлектронике // Оптоэлектроника и полупроводник. техника. 1982. Вып. 2 (співавтор); Кинетика формирования силицидных слоев при термоионном осаждении титана на монокристаллический кремний // Поверхность. Физика. Химия. Механика. 1991. № 6 (співавтор); Formation of titanium silicides by titanium deposition onto silicon with simultaneous self-ion bombardment // Thin Solid Films. 1996. Vol. 278 (співавтор); Интегрированные ионные процессы (ИИП) в тонкопленочных технологиях микроэлектроники // Вопр. атом. науки и техники. Сер. Вакуум, чистые материалы, сверхпроводники. 1998. Т. 10, вып. 4; Method and experimental arrangement for aluminium thin film deposition from r. f. metal plasma with simultaneous self-ion bombardment // Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B. 2000. Vol. 170 (співавтор).

В. М. Дзигун

Основні праці

Перспективы применения ионного осаждения тонких пленок в микроэлектронике // Оптоэлектроника и полупроводник. техника. 1982. Вып. 2 (співавтор); Кинетика формирования силицидных слоев при термоионном осаждении титана на монокристаллический кремний // Поверхность. Физика. Химия. Механика. 1991. № 6 (співавтор); Formation of titanium silicides by titanium deposition onto silicon with simultaneous self-ion bombardment // Thin Solid Films. 1996. Vol. 278 (співавтор); Интегрированные ионные процессы (ИИП) в тонкопленочных технологиях микроэлектроники // Вопр. атом. науки и техники. Сер. Вакуум, чистые материалы, сверхпроводники. 1998. Т. 10, вып. 4; Method and experimental arrangement for aluminium thin film deposition from r. f. metal plasma with simultaneous self-ion bombardment // Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B. 2000. Vol. 170 (співавтор).

Читати у файлі PDF

Інформація про статтю

Автор:

Авторські права:

Cтаттю захищено авторським правом згідно з чинним законодавством України. Докладніше див. розділ Умови та правила користування електронною версією «Енциклопедії Сучасної України»

Бібліографічний опис:

Белевський Володимир Петрович / В. М. Дзигун // Енциклопедія Сучасної України [Електронний ресурс] / Редкол. : І. М. Дзюба, А. І. Жуковський, М. Г. Железняк [та ін.] ; НАН України, НТШ. – К. : Інститут енциклопедичних досліджень НАН України, 2003. – Режим доступу : https://esu.com.ua/article-39030

Тип публікації:

Енциклопедична стаття

Том ЕСУ:

2-й

Дата виходу друком тому:

2003

Дата останньої редакції статті:

2003

Цитованість статті:

переглянути в Google Scholar

Для навчання:

використати статтю в Google Classroom

Тематичний розділ сайту:

Людина

Ключове слово:

фахівець у галузі електроніки

EMUID (ідентифікатор статті ЕСУ):

39030

Кількість переглядів цього року:

2

Схожі статті

Вишневський
Людина  |  Том 4 | 2005
В. О. Добровольський
Лупенко
Людина  |  Том 18 | 2017
Р. М. Рогатинський
Переверзєв
Людина  | 2023
Н. Г. Метеленко, М. О. Фролов

Нагору